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Axcelis Technology近日宣布其北京技術(shù)中心開(kāi)業(yè),這是近4年來(lái)Axcelis在中國(guó)設(shè)立的第二個(gè)技術(shù)支持中心。Axcelis亞太區(qū)總裁徐嘉禾介紹,Axcelis針對(duì)中國(guó)市場(chǎng)研發(fā)了最高可用于0.11um工藝的GSD+中劑量離子注入機(jī),以滿足中國(guó)客戶產(chǎn)能擴(kuò)充和成本上的需求。據(jù)了解,目前Axcelis Technology的離子注入設(shè)備在中國(guó)安裝已達(dá)到了70臺(tái)。

面向300mm生產(chǎn)線,Axcelis在Optima HD中增加了兩個(gè)新的離子源B₁₈和H+,同時(shí)采用RadiuScan_TM技術(shù),使throughput每小時(shí)可以達(dá)到370片。徐嘉禾透露,這款高端產(chǎn)品今年末有望進(jìn)入中國(guó)客戶生產(chǎn)線中。他認(rèn)為,中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)在能力提升上要以R&D技術(shù)能力的提升為基本點(diǎn),同時(shí)各晶圓廠之間也要達(dá)成一定的共識(shí),以決定自己要走的道路。

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