Mentor多款工具可為65納米通過平臺(tái)提供DFM方案
Mentor Graphics宣布其Calibre設(shè)計(jì)與制造平臺(tái)的多款工具已通過認(rèn)證,現(xiàn)已能為IBM、特許半導(dǎo)體(Chartered Semiconductor)、三星(Samsung)的65納米工藝通用平臺(tái),提供具可靠性的可制造設(shè)計(jì)(DFM)解決方案。
IBM、特許半導(dǎo)體和三星將與Mentor密切合作,針對(duì)65奈米的Common Platform技術(shù)將Calibre LFD最佳化,并提供設(shè)計(jì)人員一套LFD工具,以支持這三家半導(dǎo)體廠商共同的65納米工藝。此外Common Platform亦將利用Calibre YieldAnalyzer,協(xié)助客戶達(dá)成高良率設(shè)計(jì)(design-for-yield);該方案包含各種可制造設(shè)計(jì)規(guī)則,范圍涵蓋隨機(jī)性、系統(tǒng)性和參數(shù)性等良率損失相關(guān)的所有重要領(lǐng)域。
Common Platform合作廠商已于2005年9月列出在可制造設(shè)計(jì)方面的策略和發(fā)展藍(lán)圖,其中特別強(qiáng)調(diào)聯(lián)合開發(fā)團(tuán)隊(duì)所關(guān)注的多項(xiàng)重要領(lǐng)域;該合作旨在解決日益困難的設(shè)計(jì)收斂問題,包括時(shí)序、面積、耗電、訊號(hào)完整性和可制造性。
