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SemiconductorInternationel頒布“2003年度最佳半導(dǎo)體廠”獎(jiǎng)
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SemiconductorInternationel頒布“2003年度最佳半導(dǎo)體廠”獎(jiǎng)  2012/3/1
中芯國(guó)際集成電路制造有限公司(SMIC)位于上海市浦東新區(qū)張江高科技園區(qū)的一廠和Intel公司的11X廠被評(píng)為"2003年度最佳半導(dǎo)體廠"。這是由SemiconductorInternational雜志每年授予世界一流廠房的一項(xiàng)極高的榮譽(yù)。該評(píng)選標(biāo)準(zhǔn)主要基于以下幾大因素:生產(chǎn)能力、產(chǎn)能提升速度、自動(dòng)化程度,污染物控制程序、對(duì)員工以及環(huán)境健康和安全問(wèn)題的考慮。SemiconductorInternational主編PeterSinger說(shuō):“中芯國(guó)際在這些領(lǐng)域都有出色的表現(xiàn)。另外
  中芯國(guó)際集成電路制造有限公司(SMIC)位于上海市浦東新區(qū)張江高科技園區(qū)的一廠和Intel公司的11X廠被評(píng)為"2003年度最佳半導(dǎo)體廠"。這是由Semiconductor International雜志每年授予世界一流廠房的一項(xiàng)極高的榮譽(yù)。
該評(píng)選標(biāo)準(zhǔn)主要基于以下幾大因素:生產(chǎn)能力、產(chǎn)能提升速度、自動(dòng)化程度,污染物控制程序、對(duì)員工以及環(huán)境健康和安全問(wèn)題的考慮。Semiconductor International主編 Peter Singer說(shuō):“中芯國(guó)際在這些領(lǐng)域都有出色的表現(xiàn)。另外,中芯國(guó)際在試生產(chǎn)后僅用一年半的時(shí)間,就開發(fā)出0.35-0.18微米的工藝和0.13微米銅制程后段工藝,中芯國(guó)際銅制程在如此短時(shí)間內(nèi)達(dá)到量產(chǎn)水平也給我們留下了猶為深刻的印象。”
Intel公司的11X廠是第一個(gè)在300mm晶圓廠中實(shí)現(xiàn)130nm工藝和雙嵌入式銅工藝。在2003年下半年,該廠還將逐步轉(zhuǎn)向90nm工藝。
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