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鐵電存儲(chǔ)器工作原理和器件結(jié)構(gòu)
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鐵電存儲(chǔ)器工作原理和器件結(jié)構(gòu)  2012/3/1
作者:馬良(中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第58研究所,江蘇無(wú)錫214035)1鐵電存儲(chǔ)器簡(jiǎn)介隨著IT技術(shù)的不斷發(fā)展,對(duì)于非易失性存儲(chǔ)器的需求越來(lái)越大,讀寫速度要求越來(lái)越快,功耗要求越來(lái)越小,現(xiàn)有的傳統(tǒng)非易失性存儲(chǔ)器,如EEPROM、FLASH等已經(jīng)難以滿足這些需要了。傳統(tǒng)的主流半導(dǎo)體存儲(chǔ)器可以分為兩類:易失性和非易失性。易失性存儲(chǔ)器包括靜態(tài)存儲(chǔ)器SRAM(StaticRandomAccessMemory)和動(dòng)態(tài)存儲(chǔ)器DRAM(DynamicRandomAccessMemory)。SRAM和DRA

作者:馬 良 (中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第58研究所,江蘇 無(wú)錫 214035) 

1 鐵電存儲(chǔ)器簡(jiǎn)介

隨著IT技術(shù)的不斷發(fā)展,對(duì)于非易失性存儲(chǔ)器的需求越來(lái)越大,讀寫速度要求越來(lái)越快,功耗要求越來(lái)越小,現(xiàn)有的傳統(tǒng)非易失性存儲(chǔ)器,如EEPROMFLASH等已經(jīng)難以滿足這些需要了。

傳統(tǒng)的主流半導(dǎo)體存儲(chǔ)器可以分為兩類:易失性和非易失性。易失性存儲(chǔ)器包括靜態(tài)存儲(chǔ)器SRAM(Static Random Access Memory)和動(dòng)態(tài)存儲(chǔ)器DRAM(Dynamic Random Access Memory)。SRAM和DRAM在掉電的時(shí)候均會(huì)失去保存的數(shù)據(jù)。RAM類型的存儲(chǔ)器易于使用、性能好,可是它們同樣會(huì)在掉電的情況下失去所保存的數(shù)據(jù)。

非易失性存儲(chǔ)器在掉電的情況下并不會(huì)丟失所存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)。然而所有的主流非易失性存儲(chǔ)器均源自于只讀存儲(chǔ)器(ROM)技術(shù)。正如你所猜想的一樣,被稱為只讀存儲(chǔ)器的東西肯定不容易進(jìn)行寫入操作,而事實(shí)上是根本不能寫入。所有由ROM技術(shù)研發(fā)出的存儲(chǔ)器則都具有寫入信息困難的特點(diǎn)。這些技術(shù)包括有EPROM、EEPROM和Flash。這些存儲(chǔ)器不僅寫入速度慢,而且只能有限次的擦寫,寫入時(shí)功耗大。

相對(duì)于其他類型的半導(dǎo)體技術(shù)而言,鐵電存儲(chǔ)器具有一些獨(dú)一無(wú)二的特性。鐵電存儲(chǔ)器能兼容RAM的一切功能,并且和ROM技術(shù)一樣,是一種非易失性的存儲(chǔ)器。鐵電存儲(chǔ)器在這兩類存儲(chǔ)類型問(wèn)搭起了一座跨越溝壑的橋梁——一種非易失性的RAM。同傳統(tǒng)的非易失性存儲(chǔ)器相比,鐵電存儲(chǔ)器具有功耗小、讀寫速度快、抗輻照能力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),因此受到很大關(guān)注。

2 鐵電存儲(chǔ)器工作原理

當(dāng)一個(gè)電場(chǎng)被加到鐵電晶體時(shí),中心原子順著電場(chǎng)的方向在晶體里移動(dòng)。當(dāng)原子移動(dòng)時(shí),它通過(guò)一個(gè)能量壁壘,從而引起電荷擊穿。內(nèi)部電路感應(yīng)到電荷擊穿并設(shè)置存儲(chǔ)器。移去電場(chǎng)后,中心原子保持不動(dòng),存儲(chǔ)器的狀態(tài)也得以保存。

因此,在一個(gè)外加電場(chǎng)下,鐵電材料的極化特性會(huì)發(fā)生改變,當(dāng)這個(gè)電場(chǎng)去掉以后,這個(gè)信息仍然能夠保存。沒(méi)有外加電場(chǎng)的情況下,極化特性有兩種穩(wěn)定的狀態(tài)。圖1是一個(gè)鐵電材料電容的電滯回線,顯示了鐵電電容在所加不同電場(chǎng)的情況下的不同極性。其中,最重要的兩個(gè)參數(shù)是剩余極化程度Pr,和矯頑場(chǎng)Ec。在沒(méi)有電場(chǎng)強(qiáng)度的情況下,+/-Pr就表示了“0”、“1”兩個(gè)狀態(tài)。為了獲得這兩個(gè)狀態(tài),所加電場(chǎng)必須大于+/-Ec,因此,所需要的閾值電壓也就確定了。

相比之下,鐵電電容的漏電流沒(méi)有EEPROM、FLASH之類的傳統(tǒng)非易失性存儲(chǔ)器那么重要,因?yàn)镕eRAM的信息存儲(chǔ)是由極化來(lái)實(shí)現(xiàn)的,而不是自由電子。

3 鐵電材料簡(jiǎn)介

理想的鐵電材料需要滿足如下特點(diǎn):

介電常數(shù);
合理的自極化程度(~5μC/cm2);
高的居里溫度(在器件的存儲(chǔ)和工作溫度范圍之外);
鐵電材料厚度要薄(亞微米)以使矯頑場(chǎng)Ec較小;
能夠承受一定的擊穿場(chǎng)強(qiáng);
內(nèi)在開關(guān)速度要快(納秒級(jí)別);
數(shù)據(jù)的保持能力和持久能力要好;
如果是軍方使用的話,還要求能夠抗輻照;
化學(xué)穩(wěn)定性要好;
加工均勻性好;
易于集成到CMOS工藝中去;
對(duì)周圍電路無(wú)不良影響;
污染小等。
經(jīng)過(guò)多年的研究,目前主流的鐵電材料主要有以下兩種:PZTSBT。
PZT是鋯鈦酸鉛PbZrxTil-xO3;SBT是鉭酸鍶鉍Sr1-yBi2+xTa2O9。這兩種材料的結(jié)構(gòu)示意圖如圖2所示。

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