KLA-TENCOR2800寬帶深紫外光明場(chǎng)系統(tǒng)受青睞
KLA-Tencor近日宣布,由 Freescale Semiconductor、STMicroelectronics 和 Philips Semiconductors 三家半導(dǎo)體生產(chǎn)商組成的 300 mm生產(chǎn)和研發(fā)協(xié)作聯(lián)盟 Crolles2 Alliance 已采用新型2800寬帶 DUV 明場(chǎng)系統(tǒng),這是對(duì) KLA-Tencor 擁有的獨(dú)特檢測(cè)能力的認(rèn)可。 Crolles2 在其 65 納米研發(fā)和 90 納米生產(chǎn)合作中采用 2800,可檢測(cè)到影響成品率的關(guān)鍵性缺陷,而采用上一代的檢測(cè)工具是無法做到這一點(diǎn)的。
“我們對(duì) Crolles2 Alliance 和 KLA-Tencor 之間的成功合作感到非常滿意。” “通過在開發(fā)期間及早地采用此工具,我們已將缺陷了解周期縮短達(dá) 6 個(gè)月,同時(shí),我們每個(gè)月都能在 90 納米和 65 納米技術(shù)中不斷發(fā)現(xiàn)該工具的獨(dú)特應(yīng)用 。”Crolles2 Alliance 的代工廠廠長(zhǎng)主管 Joel Hartmann 指出, “鑒于我們與 KLA-Tencor 之間的成功合作關(guān)系,并且為了滿足代工廠的良成品率要求,我們決定另外再安裝 2800 檢測(cè)系統(tǒng)。”
作為市場(chǎng)上唯一的寬帶 DUV/UV/可見光圖形晶片檢測(cè)工具,2800 可在所有工藝層上廣泛地捕獲所有類型的缺陷。 2800 延續(xù)了 23xx 系列 UV/可見光明場(chǎng)平臺(tái)的成功,能無縫地集成到研發(fā)線和生產(chǎn)代工廠中。 自 2005 年 7 月推出以來,2800 已在全球領(lǐng)先的邏輯器件、存儲(chǔ)器件及代工工廠中陸續(xù)安裝使用,其中在部分代工廠中安裝了多部套產(chǎn)品。
