七十年代未和八十年代初,主要在日本和美國許公司以直流輸電和不同頻率、不同電壓等級的聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用為目標(biāo)而發(fā)光觸發(fā)晶閘管,企圖以減少晶閘管閥的各種元器件和零部件來提高系統(tǒng)的可靠性。
l979年12月東京電力公司在日本北海道本州間支流聯(lián)網(wǎng)設(shè)備上已應(yīng)用光控晶閘管。
1985年日立公司已開發(fā)出4000v/3000A光控晶閘管,計劃用于直流輸電。
到八十年代后期 西歐的西門子、ABB公司.俄羅斯、還有中國也相繼開發(fā)、生產(chǎn)光控晶閘管.西安電力電子技術(shù)研究所由國家立項并資助,開發(fā)光控晶閘管并于88年通過國家組織的鑒定.但是由于光控晶閘管應(yīng)用的局限性和制造技術(shù)的難度,更重要的是LTT器件參數(shù)與HYDC閥應(yīng)用特性的固有矛盾,使光控晶閘管一直未能有突破性的發(fā)展,直至今日世界上僅有少數(shù)公司在生產(chǎn)。
通常晶閘管有三個電極:控制極G、陽極A和陰極C。而光控晶閘管由于其控制信號來自光的照射,沒有必要再引出控制極,所以只有兩個電極(陽極A和陰極C)。但它的結(jié)構(gòu)與普通可控硅一樣,是由四層PNPN器件構(gòu)成。
光控晶閘管的外形如圖(a)所示。其電路圖形符號如圖(b)所示。