摘要在設(shè)計(jì)商和制造商之間構(gòu)建一種信息交流的平臺(tái)可以提高產(chǎn)能和良率。分辨率增強(qiáng)技術(shù)(RET)設(shè)計(jì)流程中聚集了各式各樣的點(diǎn)工具和方法。當(dāng)前對(duì)深亞波長(zhǎng)可制造性(DFM)設(shè)計(jì)的要求迫使設(shè)計(jì)與制造行業(yè)必須建立十分密切的合作關(guān)系。同時(shí)也促使EDA行業(yè)提供一種平臺(tái),以促進(jìn)這些行業(yè)間的密切交流。合理利用這一平臺(tái)將會(huì)對(duì)產(chǎn)能和品質(zhì)產(chǎn)生直接的影響。這一交流平臺(tái)的一個(gè)重要的組成部分就是一種被稱為工藝模型文件(PMF)的模擬文件—
摘要 在設(shè)計(jì)商和制造商之間構(gòu)建一種信息交流的平臺(tái)可以提高產(chǎn)能和良率。
分辨率增強(qiáng)技術(shù)(RET)設(shè)計(jì)流程中聚集了各式各樣的點(diǎn)工具和方法。當(dāng)前對(duì)深亞波長(zhǎng)可制造性(DFM)設(shè)計(jì)的要求迫使設(shè)計(jì)與制造行業(yè)必須建立十分密切的合作關(guān)系。同時(shí)也促使EDA行業(yè)提供一種平臺(tái),以促進(jìn)這些行業(yè)間的密切交流。合理利用這一平臺(tái)將會(huì)對(duì)產(chǎn)能和品質(zhì)產(chǎn)生直接的影響。
這一交流平臺(tái)的一個(gè)重要的組成部分就是一種被稱為工藝模型文件(
PMF)的模擬文件— 這其實(shí)是模擬過程中采用的一種信息合并方法。在模擬過程中,流程中的每一種工具都可以對(duì)它所需要的信息進(jìn)行存取。工藝和設(shè)計(jì)細(xì)節(jié)可以在光刻、集成、設(shè)計(jì)、布局、檢驗(yàn)和流片小組之間傳閱。這樣就形成一套便攜式的模擬工具,從而將整個(gè)RET設(shè)計(jì)流程統(tǒng)一起來。因此,工具設(shè)置與模擬結(jié)果在整個(gè)流程中都是一致的。
如果沒有這種信息共享,當(dāng)半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)展到更高一級(jí)的技術(shù)節(jié)點(diǎn)時(shí)設(shè)計(jì)質(zhì)量就會(huì)受到影響。設(shè)計(jì)規(guī)則校驗(yàn)(DRC)的清潔布局就再也無法滿足光刻良率的要求了。在冗長(zhǎng)的設(shè)計(jì)階段,在對(duì)RET的要求重視很少或者根本就不重視的時(shí)候,縮短流片時(shí)間仍不失為一種巨大的成就。必須考慮在產(chǎn)品設(shè)計(jì)上所耗費(fèi)的時(shí)間,因?yàn)橥瓿僧a(chǎn)品設(shè)計(jì)可能要用去幾個(gè)月的時(shí)間。而與此同時(shí)流片設(shè)計(jì)安排仍然被限制在幾天甚至更短的時(shí)間內(nèi)。從設(shè)計(jì)到進(jìn)行生產(chǎn)的整個(gè)開發(fā)范例都必須發(fā)生根本性的變化。
采用可共享工藝信息平臺(tái)的優(yōu)點(diǎn)是,它具有極其高的利用價(jià)值。然而,信息還必須得到保護(hù)?捎羞x擇性地將敏感參數(shù)和例行程序遮蔽起來,同時(shí)還要能隨時(shí)將其用于模擬和操作。
本系統(tǒng)對(duì)于那些可能要從事制造、IDM或非制造類型的大小各種組織都具有很高的利用價(jià)值。通過產(chǎn)生“RET-友好”布局設(shè)計(jì)、省略設(shè)計(jì)糾正、驗(yàn)證清潔的RET并滿足布局設(shè)計(jì)的要求,從而體現(xiàn)出它的成本優(yōu)勢(shì)。
RET挑戰(zhàn)
在新型EDA工具和流程的幫助下,設(shè)計(jì)人員正在準(zhǔn)備將設(shè)計(jì)信息嵌入到制造數(shù)據(jù)中,從而可以采用后道加工工具對(duì)關(guān)鍵的設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)進(jìn)行優(yōu)化分析。不過,新型的設(shè)計(jì)工具不斷涌現(xiàn),使設(shè)計(jì)人員可以運(yùn)用更加有效的手段來滿足后道光刻工藝的要求。對(duì)這些工具采用一套能夠**光刻限制的復(fù)雜的設(shè)計(jì)規(guī)則就可以在流片設(shè)計(jì)之前對(duì)有麻煩的結(jié)構(gòu)進(jìn)行識(shí)別和校正,這樣就產(chǎn)生一種被稱為“用光刻對(duì)設(shè)計(jì)加以確認(rèn)”的新方法。
我們來分析一下現(xiàn)有的用光刻來確認(rèn)的設(shè)計(jì)的各種流程和方法。所有的流程和方法都基于假設(shè),通常會(huì)假設(shè)一種預(yù)測(cè)或校準(zhǔn)的光刻模型相當(dāng)精確,足以涵蓋所有的設(shè)計(jì)變化。對(duì)模型進(jìn)行微調(diào)和驗(yàn)證有時(shí)會(huì)需要數(shù)月的時(shí)間。在許多情況下,校準(zhǔn)模型的精度是不夠高的,通常只能滿足一層和聚焦條件的要求。當(dāng)前半導(dǎo)體工業(yè)界正在開發(fā)貫穿整個(gè)工藝過程的窗口模型,有了這種模型就可采用更為有效的“熱點(diǎn)”探測(cè)方法。還有各種各樣的方法可用于布局安排和尋找邊緣可印區(qū)。
設(shè)計(jì)類型以及設(shè)計(jì)人員對(duì)目標(biāo)的執(zhí)著追求在決定是否應(yīng)該對(duì)“熱點(diǎn)”做更進(jìn)一步的處理中起著至關(guān)重要的作用。對(duì)一種真正有效的由光刻來確認(rèn)設(shè)計(jì)的方法而言,制造能力需要讓設(shè)計(jì)人員了解。同樣,設(shè)計(jì)人員的目的也必須與制造業(yè)的相關(guān)人員進(jìn)行交流(圖1)。等到流片設(shè)計(jì)好之后再發(fā)現(xiàn)與設(shè)計(jì)相關(guān)的問題就為時(shí)已晚矣,就迫不得已地需要采取冒險(xiǎn)的方案了。更何況通常是無法發(fā)現(xiàn)這些問題的,因而相同的問題還會(huì)困擾后道工藝的設(shè)計(jì)人員。解決這類問題的一個(gè)方法就是,任憑這種不斷對(duì)設(shè)計(jì)人員增加限制的趨勢(shì)發(fā)展下去,從而使所制訂的完整的設(shè)計(jì)流程為“白癡”方案。這樣做的結(jié)果通常會(huì)造成設(shè)計(jì)規(guī)則手冊(cè)越來越厚,而且還要不斷地補(bǔ)充建議使用的DFM規(guī)則。雖然這種做法對(duì)某些產(chǎn)品有效,但它也會(huì)限制布局的的競(jìng)爭(zhēng)能力,還會(huì)犧牲芯片的面積。