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世偉洛克半導(dǎo)體服務(wù)公司推出全新原子層沉積(ALD)工藝用閥
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世偉洛克半導(dǎo)體服務(wù)公司推出全新原子層沉積(ALD)工藝用閥  2012/3/1
世偉洛克半導(dǎo)體服務(wù)公司(SSSC)向半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)推出一款全新的閥產(chǎn)品。目前在世偉洛克公司的獨(dú)立銷售網(wǎng)絡(luò)和服務(wù)中心均有銷售的Swagelok?ALD系列閥是應(yīng)用于原子層沉積(ALD)工藝的超高純度氣動閥。ALD技術(shù)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的一項(xiàng)新興沉積技術(shù)。原子層沉積工藝是半導(dǎo)體處理技術(shù)中發(fā)展速度最快的一個領(lǐng)域,為了達(dá)到它的嚴(yán)格要求,世偉洛克的ALD系列閥具備了以下優(yōu)勢:該閥的制動速度極快,制動時間不超過5毫秒;它有極高的循環(huán)壽命-在產(chǎn)品評估
 

世偉洛克半導(dǎo)體服務(wù)公司(SSSC)向半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)推出一款全新的閥產(chǎn)品。目前在世偉洛克公司的獨(dú)立銷售網(wǎng)絡(luò)和服務(wù)中心均有銷售的Swagelok? ALD系列閥是應(yīng)用于原子層沉積(ALD)工藝的超高純度氣動閥。ALD技術(shù)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的一項(xiàng)新興沉積技術(shù)。

原子層沉積工藝是半導(dǎo)體處理技術(shù)中發(fā)展速度最快的一個領(lǐng)域,為了達(dá)到它的嚴(yán)格要求,世偉洛克的ALD系列閥具備了以下優(yōu)勢:該閥的制動速度極快,制動時間不超過5毫秒;它有極高的循環(huán)壽命-在產(chǎn)品評估時循環(huán)次數(shù)超過了25,000,000。我們正在申請專利的流量設(shè)定功能能夠保證制程氣體輸送的一致性。采用316L VIM/VAR不銹鋼材料制成,閥體帶1/4英寸VCR?,以及1/4英寸和6毫米的對焊管接頭�?晒┻x擇的產(chǎn)品包括一款高溫型,它最高可適用于200攝氏度的溫度,還有多門、多路閥以及模塊化表面安裝型等各種配置。

世偉洛克半導(dǎo)體服務(wù)公司的總部位于美國加利福尼亞州的圣克拉拉,其制造設(shè)施與分銷機(jī)構(gòu)則位于俄亥俄州的克利夫蘭附近。世偉洛克半導(dǎo)體服務(wù)公司是世偉洛克公司的一個戰(zhàn)略性業(yè)務(wù)部,致力于為全球的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)開發(fā)與制造流體系統(tǒng)組件技術(shù)。

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