電源、DFM和系統(tǒng)級(jí)設(shè)計(jì)成為DAC2005年年會(huì)的焦點(diǎn)
在2005年6月13日至17日于美國(guó)加利福尼亞州阿那海姆的阿那海姆會(huì)議中心舉行的本年度設(shè)計(jì)自動(dòng)化大會(huì)（DAC）*上討論的眾多主題中,包括了電源、DFM和系統(tǒng)級(jí)設(shè)計(jì)。本年度DAC活動(dòng)計(jì)劃的新穎之處在于推出了“無(wú)線星期三”,與會(huì)者借此機(jī)會(huì)可以參加在展廳舉辦的、以無(wú)線設(shè)計(jì)為重點(diǎn)的一系列技術(shù)研討會(huì)、DAC展示以及專(zhuān)項(xiàng)活動(dòng)。以下抽取本次DAC上的部分展品介紹給讀者。
Sigrity公司（位于美國(guó)加利福尼亞州圣克拉拉）計(jì)劃宣布其自認(rèn)為是首款在一個(gè)集成環(huán)境中實(shí)現(xiàn)完整封裝和完整芯片的同時(shí)協(xié)同仿真的EDA解決方案。這種被稱(chēng)為CoDesign Studio的工具可對(duì)整個(gè)芯片以及封裝電源供應(yīng)系統(tǒng)的電源完整性進(jìn)行分析。展會(huì)上另一款電源完整性（PowerIntegrity）工具來(lái)自Sequence Design公司（位于美國(guó)加利福尼亞州圣克拉拉）。這種名為CoolPower的工具可對(duì)布線前后的功耗（有源或待機(jī)狀態(tài)）、動(dòng)態(tài)壓降、定時(shí)以及信號(hào)完整性實(shí)施并行優(yōu)化。
CoFluent Design公司（位于法國(guó)Cedex）演示了CoFluent Studio v1.1,這是一款ESL軟件產(chǎn)品。該版本在其系統(tǒng)建模和仿真成套工具的基礎(chǔ)上增加了用于資源利用率、功耗、存儲(chǔ)器占位面積和成本的局部和全局性能分析和探測(cè)能力。
Sigma-C公司（位于德國(guó)慕尼黑）宣布了一種名為Solid+的DFM技術(shù),它有助于避免65nm及更小的掩膜故障。這種微平版印刷模擬/成像校驗(yàn)技術(shù)起虛擬曝光工具的作用,可在芯片/單元的設(shè)計(jì)流程中精確地模擬較大的區(qū)域并識(shí)別熱點(diǎn),從而可使設(shè)計(jì)師確定能否由掩膜來(lái)在這個(gè)較小的工藝節(jié)點(diǎn)上精確地生成其排版圖形。
Silicon Design Systems公司（位于美國(guó)加利福尼亞州桑尼維爾）推出了一款下一代IC布線工具 —— K-Route,它能夠消除物理閉包（physical closure）中的不確定性。該公司相信K-Route有望像物理合成影響布局那樣使布線技術(shù)發(fā)生革命性的改變。
Mentor Graphics公司（位于美國(guó)俄勒岡州Wilsonville）宣布了對(duì)其Catapult C Synthesis算法合成工具所做的擴(kuò)展。這些擴(kuò)展可令工具自動(dòng)生成SystemC 異動(dòng)層級(jí)模型（transaction-levelmodel）和包裝程序,從而使設(shè)計(jì)師能夠迅速完成架構(gòu)的折中方案分析,而且,與采用支持SystemC的驗(yàn)證環(huán)境的傳統(tǒng)RTL相比,其設(shè)計(jì)仿真速度提高了20～100倍。
Agilent Technologies EEsof EDA公司（位于美國(guó)加利福尼亞州帕洛阿爾托）推出了RFDesign Environment（RFDE 2005）,這是專(zhuān)門(mén)針對(duì)Cadence環(huán)境中的大規(guī)模RF/混合信號(hào)IC設(shè)計(jì)而開(kāi)發(fā)的。對(duì)于典型無(wú)線應(yīng)用中所使用的大型和復(fù)雜電路而言,它可實(shí)現(xiàn)高達(dá)50倍的仿真速度提升。另外,它還將對(duì)集成2.5D平面電磁（EM）仿真器做出重大改進(jìn)。
