薄膜晶體管液晶顯示器（TFT-LCD）通常采用兩個(gè)加工過程并行進(jìn)行加工成成品,如圖1所示。其基本工藝如下：圖1.TFT-LCD工藝流程圖●通過前玻璃基板/彩色濾光基板工藝過程形成精確排列的彩色濾光層�！癖∧せ骞に囆纬杀∧ぞw管液晶（TFT）陣列及顯示器像素控制所用其它電子元件。每個(gè)像素一般對應(yīng)三個(gè)薄膜晶體管液晶（TFT）,每個(gè)像素控制一個(gè)共同構(gòu)成一個(gè)像素的“色點(diǎn)”。薄膜形成工藝采用與半導(dǎo)體制造技術(shù)相類似的CVD、E
薄膜晶體管
液晶顯示器（
TFT-
LCD）通常采用兩個(gè)加工過程并行進(jìn)行加工成成品,如圖1所示。其基本工藝如下：
圖1. TFT-LCD 工藝流程圖
● 通過前玻璃基板/彩色濾光基板工藝過程形成精確排列的彩色濾光層。
● 薄膜基板工藝形成薄膜晶體管液晶（TFT）陣列及顯示器像素控制所用
其它電子元件。每個(gè)像素一般對應(yīng)三個(gè)薄膜晶體管液晶（TFT）,每個(gè)像素控制一個(gè)共同構(gòu)成一個(gè)像素的“色點(diǎn)”。薄膜形成工藝采用與半導(dǎo)體制造技術(shù)相類似的CVD、Etch及
PVD等工藝技術(shù)。此類工藝步驟應(yīng)反復(fù)數(shù)次,連續(xù)膜層方可形成一個(gè)功能元件（圖2）。
圖2. TFT-LCD的典型陣列工藝步驟
● 兩塊基板合二為一,中間注入液晶材料。
● 最后組裝背光及驅(qū)動電子元件,制造出TFT-LCD 模塊。
部分技術(shù)名詞英文縮寫
AMLCD Active Matrix Liquid
CrystalDisplay
a-
Si Amorphous Silic
onBM Black Matrix
COG Chip on Glass
COO Cost of Ownership
CRT cathode-
rayTube
CVD Chemical Vapor Deposition
EL Electroluminescence
EWS Engineering Work Station
FED Field Emission Display
FPD Flat Panel Display
HDTV
HighDefinition Television
IPS In-Plane Switching
ITO Indium
TinOxide
LCD Liquid Crystal Display
LED Light Emitting Diode
MTBF Mean Time Between Failure
MTTR Mean Time To Repair
NTSC National Television
System Commiee
OCB Optically Compensated Bend
PAL Phase Alternation by Line
color telision
PALC Plasma Addressed Liquid
Crystal
PDP Plasma Display Panel
p-Si Poly crystal Silicon
PECVD Plasma Enhanced CVD
PVD Physical Vapor Deposition
RF Radio Frequency
RGB Red, Green, Blue
RIE Reactive Ion Etching
SOG Spin on Glass
