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CEA與Crolles2聯(lián)合開發(fā)45nm和32nmCMOS納電子技術
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CEA與Crolles2聯(lián)合開發(fā)45nm和32nmCMOS納電子技術  2012/3/1
CEA(法國原子能委員會)與Crolles2聯(lián)盟簽訂了一個為期四年的研發(fā)合同(2004—2007),Crolles2聯(lián)盟的三個合作伙伴分別是意法半導體、飛利浦和原為摩托羅拉半導體產品部的摩托羅子公司Freescale半導體有限公司。這項協(xié)議預計四方將在300mm圓晶片上合作開發(fā)45nm、32nm以及32nm以下CMOS節(jié)點的納電子技術。--這項研究項目由CEA-Leti(CEA電子信息技術實驗室)在一個新的300mm制造廠完成,這個被稱為Nanotec300(納米技術300)的新廠區(qū)位
   CEA(法國原子能委員會)與Crolles2聯(lián)盟簽訂了一個為期四年的研發(fā)合同(2004—2007),Crolles2聯(lián)盟的三個合作伙伴分別是意法半導體、飛利浦和原為摩托羅拉半導體產品部的摩托羅子公司Freescale半導體有限公司。這項協(xié)議預計四方將在300mm圓晶片上合作開發(fā)45nm、32nm以及32nm以下CMOS節(jié)點的納電子技術。
--這項研究項目由CEA-Leti(CEA電子信息技術實驗室)在一個新的300mm制造廠完成,這個被稱為Nanotec 300(納米技術300)的新廠區(qū)位于格靳諾布爾市,2004年4月22日舉行了落成典禮。新廠區(qū)包括1000平方米的潔凈室和在300mm圓晶片上制造、晶質鑒定和測量電子器件如晶體管的各種設備。研究活動涵蓋四個領域:高級圖形形成、前端材料和工序、高級器件、后端材料和工序。這項研究活動將由CEA與Crolles2聯(lián)盟的三個作伙伴以及其現(xiàn)有的研究伙伴聯(lián)合進行,包括比利時Leuven IMEC和美國德州奧斯丁DanNoble中心。
--這項協(xié)議是CEA-Leti與意法半導體(ST)在格靳諾布爾地區(qū)達成的就200毫米圓晶片CMOS研究計劃的繼續(xù)。作為這項長期合作的一部分,兩個實驗室的研究員及兩個制造廠的圓晶片可以永久互換,標準的CMOS工序在Crolles完成,而較高級的技術在附近的CEA-Leti制造廠進行,從而優(yōu)化了整體研究的投資。新的協(xié)議將采用與此相似的做法。
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