"摩爾定律"的"始作涌者"是戈頓摩爾,大名鼎鼎的芯片制造廠商 Intel 公司的創(chuàng)始人之一.20 世紀 50 年代 末至用年代初半導體制造工業(yè)的高速發(fā)展,導致了"摩爾定律"的出臺.
早在 1959 年,美國著名半導體廠商仙童公司首先推出了平面型晶體管,緊接著于 1961 年又推出了平面型 集成電路.這種平面型制造工藝是在研磨得很平的硅片上,采用一種所謂"光刻"技術(shù)來形成半導體電路的 元器件,如二極管,三極管,電阻和電容等.只要"光刻"的精度不斷提高,元器件的密度也會相應提高, 從而具有極大的發(fā)展?jié)摿?因此平面工藝被認為是"整個半導體工業(yè)鍵",也是摩爾定律問世的技術(shù)基礎.
1965 年 4 月 19 日,時任仙童半導體公司研究開發(fā)實驗室主任的摩爾應邀為《電子學》雜志 35 周年? 寫了一篇觀察評論報告,題目是:"讓集成電路填滿更多的元件".摩爾應這家雜志的要求對未來十年間半 導體元件工業(yè)的發(fā)展趨勢作出預言.據(jù)他推算,到 1975 年,在面積僅為四分之一平方英寸的單塊硅芯片 上,將有可能密集 65000 個元件.他是根據(jù)器件的復雜性(電路密度提高而價格降低)和時間之間的線性 關(guān)系作出這一推斷的,他的原話是這樣說的:"最低元件價格下的理雜性每年大約增加一倍.可以確信,短 期內(nèi)這一增長率會繼續(xù)保持.即便不是有所加快的話.而在更長時期內(nèi)的增長率應是略有波動,盡管役有 充分的理由來證明,這一增長率至少在未來十年內(nèi)幾乎維持為一個常數(shù)."這就是后來被人稱為"摩爾定律" 的最初原型.