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相變存儲器,發(fā)展,工作原理,屬性,縮放比例
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相變存儲器,發(fā)展,工作原理,屬性,縮放比例  2011/10/3

目錄

  • 相變存儲器發(fā)展
  • 相變存儲器工作原理
  • 相變存儲器屬性
  • 相變存儲器縮放比例
相變存儲器

相變存儲器發(fā)展

  •   二十世紀五十年代至六十年代,Dr. STanford Ovshinsky開始研究無定形物質(zhì)的性質(zhì)。無定形物質(zhì)是一類沒有表現(xiàn)出確定、有序的結(jié)晶結(jié)構(gòu)的物質(zhì)。1968年,他發(fā)現(xiàn)某些玻璃在變相時存在可逆的電阻系數(shù)變化。1969年,他又發(fā)現(xiàn)激光在光學存儲介質(zhì)中的反射率會發(fā)生響應的變化。1970年,他與他的妻子Dr. Iris Ovshinsky共同建立的能量轉(zhuǎn)換裝置(ECD)公司,發(fā)布了他們與Intel的GordON Moore合作的結(jié)果。1970年9月28日在Electronics發(fā)布的這一篇文章描述了世界上第一個256位半導體相變存儲器。

      近30年后,能量轉(zhuǎn)換裝置(ECD)公司與Micron Technology前副主席Tyler Lowery建立了新的子公司Ovonyx。在2000年2月,Intel與Ovonyx發(fā)表了合作與許可協(xié)議,此份協(xié)議是現(xiàn)代PCM研究與發(fā)展的開端。2000年12月,STMicroelectronics(ST)也與Ovonyx開始合作。至2003年,以上三家公司將力量集中,避免重復進行基礎(chǔ)的、競爭的研究與發(fā)展,避免重復進行延伸領(lǐng)域的研究,以加快此項技術(shù)的進展。2005年,ST與Intel發(fā)表了它們建立新的閃存公司的意圖,新公司名為Numonyx。

      在1970年第一份產(chǎn)品問世以后的幾年中,半導體制作工藝有了很大的進展,這促進了半導體相變存儲器的發(fā)展。同時期,相變材料也愈加完善以滿足在可重復寫入的CD與DVD中的大量使用。Intel開發(fā)的相變存儲器使用了硫?qū)倩铮–halcogenides),這類材料包含元素周期表中的氧/硫族元素。Numonyx的相變存儲器使用一種含鍺、銻、碲的合成材料(Ge2Sb2Te5),多被稱為GST,F(xiàn)今大多數(shù)公司在研究和發(fā)展相變存儲器時都都使用GST或近似的相關(guān)合成材料。今天,大部分DVD-RAM都是使用與Numonyx相變存儲器使用的相同的材料。

相變存儲器工作原理

  •   相變硫?qū)倩镌谟蔁o定形相轉(zhuǎn)向結(jié)晶相時會表現(xiàn)出可逆的相變現(xiàn)象。在無定形相,材料是高度無序的狀態(tài),不存在結(jié)晶體的網(wǎng)格結(jié)構(gòu)。在此種狀態(tài)下,材料具有高阻抗和高反射率。相反地,在結(jié)晶相,材料具有規(guī)律的晶體結(jié)構(gòu),具有低阻抗和低反射率。

相變存儲器屬性

  •   一位可變

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