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投射式電容屏,投射式電容屏的結(jié)構(gòu)材料,掃描方式,開發(fā)難點(diǎn),應(yīng)用
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投射式電容屏,投射式電容屏的結(jié)構(gòu)材料,掃描方式,開發(fā)難點(diǎn),應(yīng)用  2011/10/3

目錄

  • 投射式電容屏的結(jié)構(gòu)材料
  • 投射式電容屏的掃描方式
  • 投射式電容屏的開發(fā)難點(diǎn)
  • 投射式電容屏的應(yīng)用
投射式電容屏

投射式電容屏的結(jié)構(gòu)材料

  •  。1)表層玻璃與雙面 ITO 玻璃均為強(qiáng)化玻璃,其中表層為非導(dǎo)電 類的玻璃。

     。2)表層玻璃與雙面 ITO 玻璃之間的光學(xué)透明膠即為我們通常所說(shuō) 的 OCA 膠。

投射式電容屏的掃描方式

  •   投射式電容方案根據(jù)其掃描方式一般分為自電容和互電容兩種:

      所謂的自容通常是指掃描電極與地構(gòu)成的電容。在玻璃表面有用ITO(一種透明的導(dǎo)電材料)制成的橫向與縱向的掃描電極,這些電極和地之間就構(gòu)成一個(gè)電容的兩極。當(dāng)用手或觸摸筆觸摸的時(shí)候就會(huì)并聯(lián)一個(gè)電容到電路中去,從而使在該條掃描線上的總體的電容量有所改變。在掃描的時(shí)候,控制IC依次掃描縱向和橫向電極,并根據(jù)掃描前后的電容變化來(lái)確定觸摸點(diǎn)的坐標(biāo)位置。自容式掃描的優(yōu)勢(shì)是掃描速度快,掃描完一個(gè)掃描周期只需要掃描X+Y(X和Y分別是X軸和Y軸的掃描電極數(shù)量)根。其缺點(diǎn)是無(wú)法識(shí)別鬼點(diǎn),不能做到真正的Real Touch。

投射式電容屏的開發(fā)難點(diǎn)

  •   1、芯片技術(shù):目前主流的是 CYPRESS 方案單面棱形結(jié)構(gòu)的 PATTERN 電極。

      2、觸控面板技術(shù):需要進(jìn)行多次鍍膜、光刻和蝕刻,工藝相當(dāng) 復(fù)雜,且良率難以提高,還有許多工藝細(xì)節(jié)需要去攻關(guān)和優(yōu) 化。

      3、開發(fā)周期:同種芯片,不同的觸控電極設(shè)計(jì)都會(huì)影響到最終 的觸控效果,靈敏度、準(zhǔn)確率、抗干擾等。因此需要進(jìn)行不 斷的優(yōu)化和選材,如 ITO 方塊電阻的選擇,線寬線距設(shè)計(jì), 回路電阻的控制等,開發(fā)周期相當(dāng)?shù)拈L(zhǎng)

      4、開發(fā)成本高:由于需要進(jìn)行反復(fù)的調(diào)試來(lái)進(jìn)行最佳參數(shù)的選 取,這個(gè)過(guò)程不僅長(zhǎng),而且成本會(huì)非常之高,常規(guī)的設(shè)計(jì), 光罩就得三塊,按 1.5 萬(wàn)每張計(jì)算,如設(shè)計(jì)上稍有更改就得 重新設(shè)計(jì)光罩。 刻膠、 影液、 洗液、 璃基材、 光 顯 清 玻 SPUTTER 都非常之貴,動(dòng)力成本也相當(dāng)高。

      5、人才難尋:投射式電容屏涉及到芯片技術(shù)和觸控面板技術(shù), 懂芯片不懂觸控面板流程,設(shè)計(jì)時(shí)不能客觀地考慮到制程上 的影響,全理論的設(shè)計(jì)是行不通的。懂流程的則不懂芯片技 術(shù),預(yù)估不到制程上的變異會(huì)給驅(qū)動(dòng)帶來(lái)怎樣的影響,潛在 的失效會(huì)造成性能不穩(wěn),而又無(wú)法理解其發(fā)生所在。所以需 要建立一個(gè)完整的團(tuán)隊(duì),芯片技術(shù)的、面板前制程技術(shù)的、 后制程貼合的各工段相關(guān)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)才能加快整個(gè)開發(fā)進(jìn) 度,缺一不可,除非是全才了。

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