CCD的雛形是在N型或 P型硅襯底上生長一層二氧化硅薄層,再在二氧化硅層上淀積并光刻腐蝕出金屬電極,這些規(guī)則排列的金屬-氧化物-半導(dǎo)體電容器陣列和適當(dāng)?shù)妮斎、輸出電路就?gòu)成基本的 CCD移位寄存器。對金屬柵電極施加時鐘脈沖,在對應(yīng)柵電極下的半導(dǎo)體內(nèi)就形成可儲存少數(shù)載流子的勢阱?捎霉庾⑷牖螂娮⑷氲姆椒▽⑿盘栯姾奢斎雱葳。然后周期性地改變時鐘脈沖的相位和幅度,勢阱深度則隨時間相應(yīng)地變化,從而使注入的信號電荷在半導(dǎo)體內(nèi)作定向傳輸。CCD 輸出是通過反相偏置PN結(jié)收集電荷,然后放大、復(fù)位,以離散信號輸出。
電荷轉(zhuǎn)移效率是 CCD最重要的性能參數(shù)之一,用每次轉(zhuǎn)移時被轉(zhuǎn)移的電荷量和總電荷量的百分比表示。轉(zhuǎn)移效率限制了CCD的最大轉(zhuǎn)移級數(shù)。
體溝道CCD的電荷轉(zhuǎn)移機(jī)理和表面溝道CCD略有不同。體溝道CCD又稱為埋溝CCD。所謂體溝道即用來存儲和轉(zhuǎn)移信號電荷的溝道是在離開半導(dǎo)體表面有一定距離的體內(nèi)形成。體溝道 CCD的時鐘頻率可高達(dá)幾百兆赫,而通常的表面溝道CCD只幾兆赫。
電荷耦合器件具有光電轉(zhuǎn)換、信號存儲及信號傳輸能力,是一種嶄新的全固體自掃描成像器件。