尼康公布32nm量產用浸沒式掃描光刻機
Nikon Corp.目前開發(fā)了一款ArF浸沒式掃描光刻機,滿足45nm存儲器和32nm邏輯器件的批量生產要求.
NSR-S610C包含了一個數值孔徑(NA)為1.3的投影透鏡和尼康第四代偏振照明技術“POLANO”。另外,系統(tǒng)也包含了尼康專有的無缺陷浸沒光刻的局部填充技術（Local Fill Technology）和雙工件臺,曝光臺可以進行極高速掃描,校準臺用來校準設備和轉換的晶圓之間的誤差。尼康宣稱,這些結構使得整套系統(tǒng)產能可達到130Wafer/h以上,對準精度可達到6.5nm,甚至更高。
應用浸沒式光刻的Nikon NSR-S609B是尼康公司第一臺浸沒光刻機于今年1月出貨 。尼康認為基于同樣浸沒光刻技術的NSR-S610C是第一臺適用于量產、具有足夠工藝窗口的掃描光刻機,能夠印制45nm的圖形,結合POLANO技術,NA為1.3的鏡頭能為45nm存儲器工藝提供理想的分辨率和焦深。
“S610C也是尼康創(chuàng)造的又一項第一。我們發(fā)售了第一個0.85數值孔徑（NA）鏡頭,第一個0.92NA鏡頭,第一個超高數值孔徑系統(tǒng),而現在我們又將發(fā)售第一個1.30數值孔徑的系統(tǒng)。” Geoff Wild,尼康精機（Nikon Precision Inc.）首席執(zhí)行官近日宣稱,“通過領先于我們的競爭對手為客戶提供一流的技術,客戶將獲得市場份額。”
NSR-S610C光刻機將于2006年底出貨。
